sakaguchi 實現(xiàn)緊湊設(shè)計的“LIGHT”·新出現(xiàn)的激光平面加熱裝置“X??·LASER”的小面積加熱！
2018-07-18 15:26:25
特點
與傳統(tǒng)的ExLASER相比，設(shè)計緊湊。
小面積（φ0.5英寸）·實現(xiàn)一次加熱。
寬架存儲集成型。可以用腳輪移動。
當(dāng)然易于操作。
與傳統(tǒng)機器一樣，它可以實現(xiàn)極高的溫升和降溫。
僅直接加熱到待加熱物體。我不加熱大氣。
激光加熱實驗
- 標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格
- 選項*我們將根據(jù)您的要求制造
- 目錄
激光加熱實驗
激光加熱樣品置于真空室中，使用ExLASER - lite（ELL - CT - 050 - FC 13）。從樣品的背面（與激光照射側(cè)相反的一側(cè)）測量溫度分布。
實驗數(shù)據(jù)
0.5英寸直徑×0.3噸在10 -3 Pa下在真空中加熱硅襯底。
溫度分布
溫度增加/減少數(shù)據(jù)
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標(biāo)準(zhǔn)規(guī)格
| 型號：ELL - CT - 050 - FC 13 | |||
|---|---|---|---|
| 激光照射方法 | 纖維類型 | 體型 | H 1420 mm×W 655 mm×D 660 mm |
| 激光輸出 | 最大50 W（CW） | 設(shè)備 | 輻射溫度計 配備真空室（內(nèi)徑φ107mm） TMP設(shè)備（10 -6 Pa范圍） 基板支架（φ12.7mm） |
| 激光波長 | 808納米 | ||
| 激光形狀 | 圈 | ||
| 光學(xué)系統(tǒng)（均勻性） | ±10％以內(nèi)（普通光學(xué)系統(tǒng)） *均質(zhì)器光學(xué)系統(tǒng)是可選的 | 額定 | AC 100 V 10 A. |
| 暖氣區(qū) | φ13毫米 | 備注 | 寬齒條存儲集成式 氣體引入成為可能 |
| 工作距離 | 150毫米 | ||
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選項*我們將根據(jù)您的要求制造
均質(zhì)器光學(xué)系統(tǒng)
·加熱面積φ13mm
·均勻度±5％
·工作距離~300 mm溫度控制器
·數(shù)字指示控制器
·紅外透明窗口