OTSUKA大塚電子廣州代理，OTSUKA廣州代理，.，OTSUKA大塚電子廣州代理 FE-3000反射光譜測(cè)厚儀日本OTSUKA大塚電子FE-3000反射光譜測(cè)厚儀日本OTSUKA大塚電子FE-3000反射光譜測(cè)厚儀日本OTSUKA大塚電子FE-3000反射光譜測(cè)厚儀日本OTSUKA大塚電子FE-3000反射光譜測(cè)厚儀日本OTSUKA大塚電子FE-3000反射光譜測(cè)厚儀日本OTSUKA大塚電子 顕微を用いた微小領(lǐng)域での絶対反射率の取得により、高精度な光干渉法による膜厚解析が可能な裝置です。 半導(dǎo)體分野でのパターンサンプルや、レンズやドリルのような形狀サンプルの他、表面粗さや膜厚ムラのあるサンプルなど、多種多様なサンプルの膜厚?光學(xué)定數(shù)解析が可能です。 特 長(zhǎng)
紫外から近赤外域の反射光により、多層膜の膜厚測(cè)定?光學(xué)定數(shù)解析が可能な光干渉式膜厚計(jì)です。 分光法の採(cǎi)用により、非接觸?非破壊かつ高精度で再現(xiàn)性の高い膜厚測(cè)定ができます。 広い波長(zhǎng)域に対応（190nm～1600nm）しています。 薄膜から厚膜まで幅広い測(cè)定範(fàn)囲に対応しています。（1nm～1mm) 微小スポット（最小φ3µm）の測(cè)定により、パターンやムラのあるサンプルに対応しています。
測(cè)定項(xiàng)目
絶対反射率測(cè)定 膜厚解析 光學(xué)定數(shù)解析（n：屈折率、k：消衰計(jì)數(shù)）
用途
機(jī)能性フィルム、プラスチック
透明導(dǎo)電膜（ITO、銀ナノワイヤー）、位相差フィルム、偏光フィルム、ARフィルム、PET、PEN、TAC、PP、PC、PE、PVA、接著剤、粘著剤、プロテクトフィルム、ハードコート、耐指紋剤など 半導(dǎo)體、化合物半導(dǎo)體
Si、酸化膜、窒化膜、Resist、SiC、GaAs、GaN、InP、InGaAs、リードフレーム、SOI、Sapphire、など 表面処理
DLCコート、防錆剤、防曇剤、など 光學(xué)材料
レンズ、フィルタ、ARコート、など FPD
LCD（CF、ITO、LC、PI、PS）、OLED（有機(jī)膜、封止剤）、など その他
HDD、磁気テープ、建材、など 測(cè)定原理
大塚電子では、光干渉法と自社製高精度分光光度計(jì)により、非接觸?非破壊かつ高速高精度な膜厚測(cè)定を可能にしています。光干渉法は、図2のような分光光度計(jì)を利用した光學(xué)系によって得られた反射率を用いて光學(xué)的膜厚を求める方法です。図1のように金屬基板上にコーティングされた膜を例にとると、対象サンプル上方から入射した光は膜の表面で反射します（R1）。さらに膜を透過した光が基板（金屬）や膜界面で反射します（R2）。このときの光路差による位相のずれによって起こる光干渉現(xiàn)象を測(cè)定し、得られた反射スペクトルと屈折率から膜厚を演算する方法を光干渉法と呼びます。解析手法は、ピークバレイ法、周波數(shù)解析法、非線形最小二乗法、最適化法の4種類があります。
SiO 2 SiNの膜厚測(cè)定 [FE-0002]
半導(dǎo)體トランジスタは電流の通電狀態(tài)を制御することで信號(hào)を伝達(dá)していますが、電流が漏れたり別のトランジスタの電流が勝手な通路を通り回り込むことを防止するために、トランジスタ間を絶縁するための絶縁膜が埋め込まれています。絶縁膜にはSiO2（二酸化シリコン）やSiN（窒化シリコン）が用いられます。SiO2は絶縁膜として、SiNはSiO2より誘電率の高い絶縁膜として、または不必要なSiO2をCMPで除去する際のストッパーとして使用され、その後にSiNも除去されます。このように絶縁膜としての性能、正確なプロセス管理のため、これらの膜厚を測(cè)定する必要があります。
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OTSUKA大塚電子廣州代理，OTSUKA廣州代理，.，OTSUKA大塚電子廣州代理藤野貿(mào)易（廣州）有限公司-主營(yíng)FA自動(dòng)化、膠粘材料、油脂材料、機(jī)械設(shè)備、精密儀器、物流搬運(yùn)，工具等產(chǎn)品
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